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發佈單位(人):
國立臺灣美術館
活動主旨:【國美館】2012年數位藝術人才國外駐棧創作,徵選開跑!
活動地址:
活動日期:2012年06月5日~2013年07月10日
主題類別:補助訊息
推薦活動:
活動內容:

 

2012年數位藝術人才國外駐棧創作,徵選開跑!
 
 一、 申請名額及地點:
(一) 名額:2012年補助1-5名(必要時得予從缺)。
(二) 地點:本年度與本館簽約之國外數位藝術機構為荷蘭V2_動態媒體藝術中心(V2_Institute for the Unstable Media)及加拿大SAT科技藝術中心 (Society for Arts and Technology),預計於今年9月開始為期約8至10週之駐棧。
 
二、 申請對象及條件
(一) 具備中華民國國籍,無兵役或其他法律限制出國者。
(二) 以新媒體藝術類為限(含數位藝術、科技藝術),至申請截止日前持續創作兩年以上, 且曾舉辦個展、聯展或聯合演出者。
(三) 具備英語或所駐棧國之語言溝通能力者(於「申請資料表」中填列)。
(四) 具備與本館簽約之國外數位藝術機構所要求之能力,且創作計畫獲該機構審核同意者。 
(五) 符合前述第(一)至(三)項條件,且已獲國外相關機構同意,將於當年度前往該機構駐棧創作者,得向本館申請補助全部或部分經費。
 
三、 申請及結果公告時間
(一) 申請時間:即日起至2012年7月10日止。自國內寄件者以申請截止日郵戳為憑,自國外寄件者以寄達日為準。請於申請截止日前親送或掛號寄至「國立臺灣美術館」,資料缺件、逾時或與規定不符者不受理。
(二) 結果公告:預定2012年8月中旬公告評選結果。
 
※上述時間如有更動,將公告於國立臺灣美術館網站。
 
四、詳細資訊請下載「2012年數位藝術人才國外駐棧創作申請簡章」
 
※預訂於6月中旬舉辦說明會,詳細時間地點請密切注意國美館網站!
http://www.ntmofa.gov.tw/